光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。

光刻機(jī)分為無(wú)掩模光刻機(jī)和有掩模光刻機(jī)。無(wú)掩模光刻機(jī)可分為電子束直寫(xiě)光刻機(jī)、離子束直寫(xiě)光刻機(jī)、激光直寫(xiě)光刻機(jī)。電子束直寫(xiě)光刻機(jī)可以用于高分辨率掩模版以及集成電路原型驗(yàn)證芯片等的制造，激光直寫(xiě)光刻機(jī)一般是用于小批量特定芯片的制造。有掩模光刻機(jī)分為接觸/接近式光刻機(jī)和投影式光刻機(jī)。接觸式光刻和接近式光刻機(jī)出現(xiàn)的時(shí)期較早，投影光刻機(jī)技術(shù)更加先進(jìn)，圖形比例不需要為1:1，減低了掩膜板制作成本，目前在先進(jìn)制程中廣泛使用。隨著曝光光源的改進(jìn)，光刻機(jī)工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)不斷縮小。